• 因曝光時光罩 (Mask) 與玻璃基板間距相當小，且玻璃基板也 有其平整度誤差，間距大約維持 150μm~200μm 之間。
• 如果玻璃基板有高度異物存在則在曝光時容易刮傷光罩及造成 玻璃基板破裂，最嚴重時會損傷曝光機 Stage (曝光平台)，造成機台無法生產。

• 設備功能：同動控制系統、光學模組檢測、剛性阻尼架構。
• 畫面功能：畫面選擇、參數設定、波形分析、SQL 歷史履歷紀錄。
• 可接 PLC 控制設備與即時回傳資訊。
• 本系統發現異物檢時傳回 CIM 系統。

異物檢查系統之開發已於民國 100 年經 SBIR 結案驗證通過
其計劃編號：IZ980764

可檢測最大之玻璃尺寸 ≦ 1870mm。