• 因曝光时光罩 (Mask) 与玻璃基板间距相当小，且玻璃基板也 有其平整度误差，间距大约维持 150μm~200μm 之间。
• 如果玻璃基板有高度异物存在则在曝光时容易刮伤光罩及造成 玻璃基板破裂，最严重时会损伤曝光机 Stage (曝光平台)，造成机台无法生产。

• 设备功能：同动控制系统、光学模组检测、刚性阻尼架构。
• 画面功能：画面选择、参数设定、波形分析、SQL 历史履历纪录。
• 可接 PLC 控制设备与即时回传资讯。
• 本系统发现异物检时传回 CIM 系统。

异物检查系统之开发已于民国 100 年经 SBIR 结案验证通过
其计划编号：IZ980764

可检测最大之玻璃尺寸 ≦ 1870mm。